Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS的目标是在微纳光刻、微机电系统（MEMS）和微光机电系统（MOEMS）领域发表高质量的研究论文。

1. 期刊简介

《Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS》的出版社是SPIE（国际光学工程学会）。该期刊的出版周期为季刊，即每年出版4期。该期刊的领域地位较高，在学术界具有一定的影响力，并为该领域的研究人员提供了一个交流和分享成果的平台。

Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS的国际标准连续出版物编号（Issn号）是1932-5150。 

Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS目前的主编是Harry Levinson。

2. 影响因子

《Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS》的影响因子近几年略有波动，2022年影响因子为2分。

3. 分区

《Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS》在中科院升级版中，大类物理与天体物理位于3区，小类光学4区，纳米科技4区，材料科学：综合4区，工程：电子与电气4区，非综述类期刊。

在JCR分区中，光学Q3，纳米科技Q4，材料科学：综合Q3，工程：电子与电气Q3。

4. 研究范围

《Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS》是一本国际学术期刊，主要涵盖微纳尺度下的光刻、电子机械系统、光电机械系统、加工技术以及器件和应用等方面的研究。

5. 稿件类型

Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS期刊接受以下类型的稿件：原创研究论文、综述文章、通讯、评论和观点文章、技术报告、专题论文集。

6. 发文量

Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS的年发文量近三年稳定0篇以上。2020-2021年26篇，2021-2022年0篇，目前，2022-2023年期刊被sci收录的论文0篇。

国人发文情况

国人发文占比为1%。

7. 自引率

《Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS》的自引率近几年略有波动，2022年自引率为0%。

 

8. 预警情况

《Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS》不在预警名单中，可放心投稿。

9. 审稿周期

《Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS》的审稿周期：6-12周（非官方）。

10. 版面费

Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS是一本接受开放获取期刊。不需要版面费。

11. 网址信息

期刊官网：http://www.spie.org/publications/journals/journal-of-micro/nanolithography-mems-and-moems

投稿链接：https://jm3.msubmit.net/cgi-bin/main.plex

12. 推荐指数

Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS发展迅速。审稿周期6-12周左右，研究范围广，2020年发文量达到26篇，影响因子2分，有一定的投稿难度，光学相关领域的同学多多关注。