这期带来的Journal of Vacuum Science & Technology B是一个专注于真空、薄膜和表面科学技术的国际期刊，旨在促进该领域的学术研究和应用进展。该期刊创刊于1983年，由美国物理学会和AVS Science and Technology Society共同出版。

 

　　期刊官方网站：https://pubs.aip.org/avs/jvb

　　期刊投稿网址：https://jvstb.peerx-press.org/cgi-bin/main.plex

　　影响因子：近年来，Journal of Vacuum Science & Technology B的影响因子有小幅度不动，但总体稳定，2021年为1.572。

　　自引率：近年来，Journal of Vacuum Science & Technology B的自引率总体不高，有一定程度的波动，2021年为7.8%。未来难以预测，但估计不超过10%。

　　期刊分区：WOS分区为四区（依据2021-2022年最新版）。

　　根据2022年12月最新升级版的中科院SCI分区，处于大类工程技术四区，小类工程：电子与电气等四区，比较稳定。

　　期刊发文量：近年来，Journal of Vacuum Science & Technology B发文量有一定下降，2021年为149篇，预计未来会继续波动或有小幅度下降。

　　发表文章类型：Journal of Vacuum Science & Technology B发表文章类型和所占比例大致如下，其中工程技术、物理学、其他领域的科学技术和材料科学占主要部分。

　　国人在该期刊的发文量占比：近年来，Journal of Vacuum Science & Technology B主要发文国家为美国、日本和德国，可以看出该期刊对国人发文不太友好。

　　Journal of Vacuum Science & Technology B发表文章的主要研究领域及方向、发表文章关键词： 主要涉及真空科学、表面科学和薄膜制备方面的研究，常见的关键词包括：Vacuum technology, Thin films, Surface analysis, Surface engineering, Surface chemistry等。