中科院三区，IF4.1，国人占比第一！

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING旨在发表关于半导体加工领域的材料科学研究成果。该期刊聚焦于半导体材料的制备、加工和性能调控等方面，涵盖了晶体生长、薄膜沉积、表面改性、光电特性等内容。

1.期刊基本信息

研究方向：半导体加工

出版周期：Bimonthly

出版年份：1998

出版国家：ENGLAND

期刊ISSN：1369-8001

是否OA开放：否

2.分区

JCR分区：JCR分区等级为2区。

根据2023年12月最新升级版的中科院SCI分区，分区大类工程技术三区，小类物理：应用、物理：凝聚态物理、材料科学：综合、工程：电子与电气三区。

3.指标分析

①MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING的影响因子总体上呈上升趋势，2023年最新影响因子为4.1。

②MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING的自引率整体不高，2023年度为4.9%。

③MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING最近五年发文量分别为412，468，485，873，706。

目前，发文量最多的国家为中国，我国国人发文2006篇，占比27.2%。

④MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING发文量非常可观、影响因子4.1，国人占比第一，自引率很稳定，可以尝试投稿。

 

4.审稿周期

官网给出的审稿周期如下：

随机从官网上挑选了3篇文章，从投稿到接收最快一个多月，最慢的为两个月：

文章1：投稿时间2024.1.4，接收时间2024.2.20，发表时间2024.2.24

文章2：投稿时间2023.12.18，接收时间2024.1.27，发表时间2024.2.24

文章3：投稿时间2023.12.5，接收时间2024.2.6，发表时间2024.2.24

5.版面费

用于OA的APC需要3030美元。

6.期刊接收类型

文章类型：主要发表论文，其次为Meeting、综述论文、社论材料、修订等

研究方向：晶体生长、薄膜沉积、表面改性、光电特性、半导体材料的结构与性能等

总结

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING为半导体加工领域的材料科学研究提供了一个重要的学术平台。目前，该期刊处于中科院三区，IF4.1，自引率比较稳定，发文量很可观，国人占比27.2%，投稿指数三颗星。