工程技术SCI期刊推荐:IEEE IND ELECTRON M

时间:2023-03-30 10:31:54 | 来源:佩普学术官网 | 浏览:1212

  《IEEE IND ELECTRON M》——工程技术领域学术期刊,该刊发表同行评审文章,介绍工业电子产品研发的新兴趋势和实践、关键见解以及IEEE工业电子学会(IEEE/IES)成员感兴趣领域的教程调查。期刊ISSN:1932-4529

01      影响因子

  IEEE IND ELECTRON M影响因子近几年有所下降,最新影响因子达8.36

02      分区

  JCR分区:工程:电子与电气位于Q1

  中科院分区:大类工程技术,小类工程:电子与电气,均位于1区

03      年发文量

  IEEE IND ELECTRON M年发文量稳中有升,2022年发文共计57篇。

04      国人占比

  IEEE IND ELECTRON M2022年中国人文章占该期刊总数量13.00%,国人发文量比较少。

05      自引率

  IEEE IND ELECTRON M最新自引率为5%,数值比较低,广大学者放心投稿。

06      文章类型

  该刊全部是论著,可能不接收综述类等文章。

07      研究领域

  IEM仅限于工业和制造系统及工艺的电子、控制、通信、仪器仪表和计算智能的理论和应用。

08      审稿周期

  平均审稿周期:平均12周

09      版面费

  IEEE IND ELECTRON M官网未明确。

10      期刊信息

  官方网址

  http://ieeexplore.ieee.org/xpl/RecentIssue.jsp?punumber=4154573

  投稿链接

  https://mc.manuscriptcentral.com/iem-ieee

11      投稿须知

  稿件最好以原始文件格式和PDF格式提交。

12      期刊总结

  IEEE IND ELECTRON M属于工程技术1区top期刊,IF值8+,平均审稿周期约12周,自引率低,工程技术方向的学者值得关注。